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  • High Purity Etchant

  • High Purity Etchant
  • 다양한 종류의 금속 및 금속합금 등을 식각하기 위해 고안된 제품
    (Cr, Al, ITO, Ni, Poly-Si, SiO2, Au, NiCr)
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  • High Purity Cleaner

  • High Purity Cleaner
  • 포토마스크, 유리, 석영, 실리콘 기판 및 wafer용 세정액
    계면활성제, 황산+과수 대체 제품 등
  • E-Mail : [me@globalzeus.com]
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  • High Purity Developer

  • High Purity Developer
  • 다양한 종류의 감광막용 현상액.
    포토마스크, 평판디스플레이 공정에 사용되는 제품
    Bath type 뿐 아니라 Spray type에도 적용 가능
    TMAH 2.38%, TMAH 2.14%, TMAH 20%, TMAH 25%, KOH, NaOH Base
  • E-Mail : [me@globalzeus.com]
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  • High Purity Plating Solution

  • High Purity Plating Solution
  • 다양한 공정에 사용가능한 도금액 제품
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  • Positive Photoresist Remover

  • Positive Photoresist Remover
  • 각종 Photoresist를 제조사에 상관 없이 상온에서부터 고온까지 사용 가능.
    Al, Mo, Ni, Ti 등 Metal에 대한 부식을 최소화한 제품
  • E-Mail : [me@globalzeus.com]
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  • Negative Photoresist Remover

  • Negative Photoresist Remover
  • 인체에 무해한 다양한 제품 보유
    Metal에 대한 부식을 최소화한 제품
  • E-Mail : [me@globalzeus.com]
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  • Polymer Remover

  • Polymer Remover
  • Dry Etch 후의 각종 Polymer 제거 가능
    Metal별 다양한 제품 공급
  • E-Mail : [me@globalzeus.com]
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  • Post Clean Treatment

  • Post Clean Treatment
  • 포토레지스트 혹은 잔류 폴리머의 제거, 순수에 의한 세정 사이에 사용
    긴 사용 수명과 교환 주기의 감소로 비용 절감 가능
    인화성이나 가연성이 없기 때문에 작업의 안정성 확보
  • E-Mail : [me@globalzeus.com]
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  • Hig Purity Process Chemicals

  • Hig Purity Process Chemicals
  • FPD 공정에서 사용되는 다양한 현상액, Stripper 및 Etchant
  • E-Mail : [me@globalzeus.com]
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  • LED Process Chemical

  • LED Process Chemical
  • LED 공정에서 이용되는 다양한 Etchant 및 Stripper
  • E-Mail : [me@globalzeus.com]
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